黄仁勋：中国4年内搞定光刻机！

国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！ 不拘中国、 放眼世界 ！ 关注 世界半导体论坛 ↓↓↓ 9月17日消息，据报道，在近前的峰会上，黄仁勋回应了主持人提问的中国什么时候能搞定先进光刻机， 黄仁勋判断中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统！ 他还提到一旦技术成熟，中国公司就有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。 国外对中国光刻机的进展一直是非常关心的，在这方面各种表态都有，有意思的是前不久蔡司半导体负责人Frank Rohmund也回答了类似的问题，表示中国要做出国产EUV光刻机可能还需要约15年。 相比之下，黄仁勋的判断更乐观，不过这两个回答之间也没有可比性，蔡司回应的是EUV，黄仁勋说的是先进光刻机，EUV当然是先进光刻机，但DUV依然也是先进光刻机，2030年也不会落伍，重要性也不会因为EUV量产了就降低，两种技术是独立的生态。 半导体论坛百万微信群 第一步：扫描下方二维码，关注国芯网微信公众号。 文章内容整理自网络，如有侵权请联系沟通 特别